В Москве создали первый в России фотолитограф с разрешением 350 нм

Компания-резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» разработала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом сообщил мэр Москвы Сергей Собянин в своем Telegram-канале.

«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе – Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере», — написал Собянин.

По словам мэра, отечественная установка отличается от зарубежных аналогов использованием твердотельного лазера вместо ртутной лампы, что обеспечивает большую мощность, энергоэффективность, долговечность и более узкий спектр излучения.

Сообщается, что на отечественный фотолитограф уже есть заказчик, и в настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров, которую планируется завершить в 2026 году.

Ранее Вести Московского региона сообщали, что робот «Светлана» помогла подмосковным льготникам почти 20 тысяч раз продлить рецепты.